材料科学,材料化学,CVD,化学气相沉积

第20卷　第4期

　2000年10月物　理　学　进　展PROGRESSINPHYSICSVol.20,No.4Oct.,2000文章编号:1000Ο0542(2000)04Ο0395Ο12

有机分子束外延技术与研究进展

周淑琴　刘云圻　(:　,讨论了外;从理论和实验观点评论了薄膜的生长性质和膜的有序结构。超高真空有机分子束外延技术是一种多用途的高技术,可以生长有机、无机、有机/无机混和的薄膜结构。这种薄膜结构是未来光学和电子器件有希望应用的新一类工程材料。

有机分子束外延;超高真空;有机薄膜;

分子器件关键词:　

中图分类号:　484.1　　文献标识码:　A

0　引　言

薄膜科学始终是一门发展迅速、内容丰富、极其有意义的独立学科。随着分子电子学的发展,薄膜技术特别是有序薄膜技术,在微观电子学和纳米电子学方面深受重视。在过去的十年,超薄的有机分子薄膜和具有特殊光、电、磁功能的多层结构膜的研究有了惊人的进展。完成这种有序超薄有机膜的一个重要方法之一是分子束外延生长技术。这种技术的主要特点是使用超高真空(UHV)技术。如果化合物的纯度很高,结构完整,那么就能够很好的控制单分子有机膜的外延生长[1～3]。多年来,这种有机单分子膜的控制是采用众所周知的LB膜沉积技术[4]。近年来,一种分子自组装技术也能完成单分子膜的制备[5]。但这两种薄膜技术,都要求对成膜分子进行化学修饰,使其带有特定的基团,从而限制了分子材料的研究范围。超薄有机分子薄膜真空生长技术也称为有机分子束沉积(OMBD)技术,或有机分子外延(OMBE)技术,它的优点在于无需对材料进行修饰,外延层的厚度可控,基片及环境的清洁度可达到原子级,在沉积超薄膜的过程中能够原位实时地监控膜的结构生长情况。OMBE技术为了解超薄有机膜系统的基础结构和光、电、磁性质提供了全新的可行性操作。

超薄有机分子薄膜在分子电子学或纳米电子学领域具有广泛的实际应用前景,目前,收稿日期:2000Ο05Ο24;修改日期:2000Ο07Ο17

基金项目:国家自然科学基金和中国科学院“九五”

重大基础研究基金的资助