北京化工大学2007——2008学年第一学期《半导体物理学》期末考试试卷答
半导体物理学
一、 填空题每空2分共30分
1. Si和Ge的导带中等能面是旋转椭球面根据回旋共振实验结果得到Si的导带极小值位于布里渊区的_[100]___方向上而Ge的导带极小值位于布里渊区的___[111]_方向上。
2. 按照半导体中杂质原子在半导体晶体中所处的位置半导体中的杂质可以分为_______间隙式杂质___和____替位式杂质______两种。
3. 浅能级杂质的电离能可以用类氢模型计算设Ge的电子有效质量为0.12m0相对介电常数为16则Ge中施主杂质的电离能为_____0.0064____eV。
4. 室温下k0T/q=0.025V已知Si的电子迁移率为1400cm2/(V·S)则该材料中的电子扩散系数为_______35cm2/s___。
5. 如果价带中的电子满足玻耳兹曼分布则价带中的空穴浓度表达式为_Nvexp[(Ev-EF)/k0T]____室温时半导体Si中掺入Al掺杂浓度为NAAl已基本全部电离在此条件下该半导体的电中性条件为____p0=NA____费米能级为VAVNNTkEln0。
6. 电阻率为5.0Ω·cm的n型Si其载流子浓度为1015cm-3则其电子迁移率为_____1250cm2/(vs)______。
7. pn结电容有两个来源根据其来源分别是__势垒电容___和__扩散电容_____。
8. pn结加反向偏压时流过pn结的电流比由扩散理论得到的理论值要大而且随反向偏压的增加而缓慢增加除扩散电流外该电流还包括___势垒区的产生电流___。
9. n型Si掺杂浓度为1015cm-3其功函数为4.31eV电子亲和势为4.15eV镍的功函数为4.50eV则镍与该n型Si紧密接触后半导体一边的电子势垒高度为___0.19__eV金属一边的电子势垒高度为____0.35__eV
二、简答题每题5分共20分
1. 说明长声学波对载流子产生散射的机制。 长纵声学波传播时引起原子分布的疏密变化在一个波长内一半处于压缩状态一半处于膨胀状态。而禁带宽度随原子间距而变化疏处禁带宽度变小密处变大。禁带宽度的改变反映出导带底和价带顶的升高或降低这时同处于导带底或价带顶的电子或空穴在半导体的不同地点其能量就有差别。所以纵波引起的能带起伏就其对载流子的作用来讲如同产生了一个附加的势场这一势场破坏了原来势场的严格周期性对载流子产生散射。
2. 何为间接复合并说明间接复合的四个过程。、 间接复合是非平衡载流子通过禁带中的复合中心的复合。 具体的四个过程为 复合中心俘获导带中的电子 复合中心向导带发射电子 复合中心俘获价带的空穴 复合中心向价带发射空穴。
3. 画图说明隧道二极管的正向电流电压特性并给出解释。 对于两边都是重掺杂的pn结n型半导体的费米能级进入了导带p型半导体的费米能级进入了价带。当加一较小的正向电压时n区能带相对p区升高qV这时结两边能量相等的量子态中p区价带的费米能级以上有空的量子态而n区导带费米能级以下有量子态被电子占据并且两边都是重掺杂的pn结势垒区很薄n区的电子可以隧穿进入p区形成电流。当n区导带底与p区的费米能级持平电流达到最大之后随电压升高两边能量相等的量子态数目减少电流减小产生负阻特性。
4. 说明pn结扩散电容的产生机制。 Pn结加正向电压时电子自n区一侧注入p区空穴由p区注入n区并在扩散区内形成少子的积累为了保持电中性各区的多子也会有相应的积累。当外电压变化时积累的电荷会随着变化产生扩散电容
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