ITO镀膜技术有新的突破
“工研院”跨领域研发“低温大气压电浆透明导电镀膜制程与设备”，这项研究获选“工研院”今年的“杰出研究金牌奖”，昨天在“工研院”37周年院庆中获得表扬。
“工研院”成功突破昂贵的真空技术，研发出新一代透明导电镀膜制程和设备，不但节省三分之二的成本，更用“锌”取代稀有的“铟”材料，是项兼顾环保的绿色制程。这项技术，可以应用在触控面板及太阳能（PV）的透明电极制造上。
铟锡氧化（ITO）透明导电膜占电阻式触控面板成本高达九成，日商日东电工及尾池拥有全球七成市占率。若“工研院”这项“低温大气压电浆透明导电镀膜制程与设备技术”能顺利进入量产，不仅会协助台湾ITO透明导电膜厂扩大市占，也让触控面板和PV制造成本大幅下降。
“工研院”昨（5）日举行37周年院庆典礼，会中颁发夺得杰出研究金牌奖的“低温大气压电浆透明导电镀膜制程与设备技术”，是花了六年时间研发出的成果。
代表领奖的机械所研究员张加强说，会舍弃传统技术，改采非真空大气压电浆技术，是因为执着创新的精神，而成就获奖的荣耀。（经济日报-台）
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