[活动召集]大家来讨论下未来2年晶硅电池的研发方1#

发表于 2010-12-8 10:34 | 只看该作者 | 倒序看帖 | 打印 | 使用道具

本帖最后由 iforgethowtopv 于 2010-12-8 10:37 编辑

目前单晶常规工艺转换效率已经触及和越过18%的门槛，而国内真正进入量产的所谓高效电池还几乎没有（pluto panda etc），研发在这段时间中成为了鸡肋。

未来2年的情况将会如何，常规工艺转换效率会一直扶摇直上触及到20%吗？而如果常规工艺效率提升在这段时间遇到了真正的瓶颈，将会出现什么样的新技术？

目前比较红火的SE技术是一个相对成熟的新工艺，它会在未来2年内，得到大面积推广，从而替代目前的常规工艺吗？

又或者是将一些更新的如 WT(wrap through), laser diffusion,+plating,seed layer+plating, N-type with Al emitter, N-type with B emitter, PRLC, AlOx passivation, and others 推向量产？

大家来谈谈自己的看法，在未来两年何种技术能突出重围，引导量产晶硅电池突破20%

听说晶澳用innovalight的纳米硅墨技术做到了19%？值得关注的一种技术

浆料和网版厂商多做贡献效率也是可以上去。SE等新型技术也就为数不多的一些厂家会去做。其他主要是在现有工艺优化，生产工艺简化，在产能上有所增加。毕竟产量做的上去比效率做上去要容易。一些新的技术也可能引进，如等离子清洗，背腐蚀、激光掺杂，激光烧结等。

现在国内吧，暂时领先的就是SCHMID,和INNOVOLIGHT 但形势不够明朗，呵呵，还需要一段时间观察