晶体缺陷及其应用
少量晶体缺陷对于晶体的物理性能能够产生重要影响,所以可以根据不同的晶体缺陷,开发利用其产生的影响,充分发挥可能产生的作用,研究并制备具有不同性能的材料,以适应人们不同的实际需要和时代的发展需求。
晶体缺陷及其应用
摘要
少量晶体缺陷对于晶体的物理性能能够产生重要影响,所以可以根据不同的晶体缺陷,开发利用其产生的影响,充分发挥可能产生的作用,研究并制备具有不同性能的材料,以适应人们不同的实际需要和时代的发展需求。
关键词
晶体缺陷 性能 铁磁性 电阻 半导体材料
引言
在讨论晶体结构时,我们认为晶体的结构是三维空间内周期有序的,其内部质 点按照一定的点阵结构排列。这是一种理想的完美晶体,它在现实中并不存在,只 作为理论研究模型。相反,偏离理想状态的不完整晶体,即有某些缺陷的晶体,具 有重要的理论研究意义和实际应用价值。所有的天然和人工晶体都不是理想的完整 晶体,它们的许多性质往往并不决定于原子的规则排列,而决定于不规则排列的晶 体缺陷。
晶体缺陷对晶体生长、晶体的力学性能、电学性能、磁学性能和光学性能等均 有着极大影响,在生产上和科研中都非常重要,是固体物理、固体化学、材料科学 等领域的重要基础内容。研究晶体缺陷因此具有了尤其重要的意义。本文着重对晶体缺陷及其对晶体的影响和应用进行阐述。
1.晶体缺陷的定义和分类
1.1 晶体缺陷的定义
在理想的晶体结构中,所有的原子、离子或分子都处于规则的点阵结构的位置 上,也就是平衡位置上。1926 年Frenkel 首先指出,在任一温度下,实际晶体的原 子排列都不会是完整的点阵,即晶体中一些区域的原子的正规排列遭到破坏而失去 正常的相邻关系。我们把实际晶体中偏离理想完整点阵的部位或结构称为晶体缺陷 (defects of crystals)[1]。
1.2 晶体缺陷的分类
1.2.1、按缺陷的几何形态分类可分为四类:点缺陷、线缺陷、面缺陷、体缺陷。
1.点缺陷(零维缺陷):缺陷尺寸处于原子大小的数量级上,即三维方向上缺陷的尺寸都很小。包括:空位(vacancy)、间隙原子(interstitial particle)、异类原子(foreign particle)。
点缺陷与材料的电学性质、光学性质、材料的高温动力学过程等有关。
2..线缺陷(一维缺陷):指在一维方向上偏离理想晶体中的周期性、规则性排列所产生的缺陷,即缺陷尺寸在一维方向较长,另外二维方向上很短。线缺陷的产生及运动与材料的韧性、脆性密切相关。
3.面缺陷:面缺陷又称为二维缺陷,是指在二维方向上偏离理想晶体中的周期性、规则性排列而产生的缺陷,即缺陷尺寸在二维方向上延伸,在第三维方向上很小。如晶界、相界、表面、堆积层错、镶嵌结构等。面缺陷的取向及分布与材料的断裂韧性有关。[2]
4.体缺陷
也称为三维缺陷,指晶体中在三维方向上相对尺度比较大的缺陷,和基质晶体
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